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四氟化碳
  • 四氟化碳

四氟化碳

四氟化碳又名四氟甲烷,是无色无臭无味气体,常被用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺,也用作激光气体及制冷剂,易司拓普可供应5N级四氟化碳,有需求可联系客服。

  • 产品名称:四氟化碳
  • CAS号:75-73-0
  • 别名:四氟甲烷
  • 产品规格:5N 44L/瓶
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四氟化碳又名四氟甲烷,是无色无臭无味气体,常被用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺,也用作激光气体及制冷剂,易司拓普可供应5N级四氟化碳,有需求可联系客服。

四氟化碳产品介绍

产品名称:四氟化碳

别名:四氟甲烷

CAS号:75-73-0

分子式:CF4

产品规格:5N

包装规格:44L/瓶、CGA580/Diss716、30KG

四氟化碳的生产方法

目前工业上制备四氟甲烷CF4的方法主要有烷烃直接氟化法、氟氯甲烷氟化法、氢氟甲烷氟化法和氟碳直接合成法等。烷烃直接氟化法是工业上最早采用这种方法来制备氟代烷烃,但该反应剧烈放热,难以控制,需要采用特别的措施。杜邦(法国)公司的专利介绍了一种在有催化剂存在下,使甲烷与Cl2和HF于气态下反应来制备四氟甲烷CF4的方法。反应式如下:CH4+4Cl2+4HF---CF4+8HCl。反应在1个填充催化剂的管式反应器或流化床反应器中进行,采用预先经HF活化的金属氧化物或卤化物作催化剂,特别是Al2O3,Cr2O3和CoCl2。提Cl2和HF的用量及反应温度有利于CF4生成,控制反应温度在450~550℃,反应物接触时间在0.5~5s。该方法的优点是工艺成熟、操作简单、原料易得。但该方法也存在反应不易控制、产物复杂、收率低等缺点,最终将被其他工艺所淘汰。

四氟化碳的应用

四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子体蚀刻气体,广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于化学稳定性极强,CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规格,各国为推动本国微电子工业发展,越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言,CF4以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体场,因此具有广阔的发展潜力。

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