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三氟化氮
  • 三氟化氮

三氟化氮

三氟化氮化学式NF3,是无色、无臭、性质稳定的液化气体,三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体,易司拓普可供应4N级三氟化氮气体,有需求可咨询客服。

  • 产品名称:三氟化氮
  • CAS号:7783-54-2
  • 产品规格:4N
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三氟化氮化学式NF3,是无色、无臭、性质稳定的液化气体,三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体,易司拓普可供应4N级三氟化氮气体,有需求可咨询客服。

三氟化氮产品介绍

产品名称:三氟化氮

英文名:nitrogen trifluoride

CAS号:7783-54-2

分子量:71.00190

分子式:F3N

产品规格:4N

包装规格:47L/瓶、Diss640、20kg

三氟化氮的用途与应用

三氟化氮(NF3)主要用途是用作氟化氢-氟化气高能化学激光器的氟源,在h2-O2与F2之间反应能的有效部分(约25%)可以以激光辐射释放出,所HF-OF激光器是化学激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体,对硅和氮化硅蚀刻,采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性,而且对表面无污染,尤其是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中,三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性,在被蚀刻物表面不留任何残留物,同时也是非常良好的清洗剂。

NF3是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体,对硅和氮化硅的蚀刻,采用NF3和CF4+O2的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性,而且对表面无污染。氢与NF3反应,在瞬间伴随放出大量的热,这就是NF3在高能化学激光器方面大量应用的原理。在高温下,NF3与有机化合物反应常伴有爆炸性,操作时应十分谨慎。

用作高能燃料。

三氟化氮的生产

目前三氟化氮工业化生产主要有两条路线,一是合成法:将氟化氢铵在镍制反应器中加热,氟气、氮气和氨通过分布器进入反应器直接氟化反应。二是电解法:在一定温度下,电解熔融的氟化氢铵,电解过程中阳极产生三氟化氮,阴极产生氢气。我国三氟化氮生产厂家的生产方法为上述两种方法。

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